芯源微：涂胶显影打破垄断湿法清洗国产先锋

更新时间：2024-08-24 作者：米乐客户端

  国内涂胶显影设备稀缺供应商，横跨晶圆制造前后道工艺：芯源微是国内半导体设备稀缺供应商，自2002年年成立以来深耕涂胶显影设备，已经在LED芯片制造及集成电路后道先进封装等环节实现进口替代，目前正向前道扩展。2017年公司开拓单片式湿法清理洗涤设施业务，近两年实现较快增长。根据公告，2019年两大业务收入占比分别为52%和45%。公司LED客户最重要的包含华灿光电、乾照光电、澳洋顺昌等，集成电路客户最重要的包含台积电、上海华力、中芯国际、长江存储、华为、华天科技、长电科技、通富微电等。新产品持续取得客户突破，新增订单也在持续交付过程中，公司作为国内半导体设备稀缺标的，产品和技术实力强劲，在国产替代背景下具备高成长性。

  涂胶显影设备打破国外垄断，不断开发高端产品和客户：根据VLSI，2018年全球涂胶显影设备市场规模约为24.13亿美元，国内为9.36亿美元。其中，TEL（东京电子）在全球和中国都绝对垄断地位，在国内市占率约91%，国产厂商仅芯源微一家，占约4%，为国产替代突破口（18年，根据贝哲斯信息咨询）。芯源微的工艺范围涵盖LED芯片制造、集成电路制造后道先进封装制程以及前道的I-line、KrF、ArF等制程工艺。公司的前道涂胶显影设备已于2018年下半年分别发往上海华力、长江存储进行工艺验证。截止2019年报，公司已陆续获得了株洲中车、青岛芯恩、上海积塔、宁波中芯、昆明京东方、厦门士兰等多个客户的前道订单。

  湿法清洗使用频率高，公司已由后道封装切入前道制造：湿法工艺应用于晶圆制作的完整过程中90%以上的清洗步骤，其中单片式清理洗涤设施的产能相比来说较低，但微粒去除能力较好且能够尽可能的防止交叉污染。根据VLSI，2018年全球单片式湿法清理洗涤设施规模约22.69亿美元，主要厂商为日本DNS，占比达40%以上（根据中国产业信息网）；国内主要竞争对象为盛美股份，至纯科技和北方华创。公司生产的单片式湿法设备主要由清洗机、去胶机和湿法刻蚀机构成，其单片式湿法设备目前大范围的使用在晶圆后道封装，另外前道SpinScrubber清洗机设备已在中芯国际、上海华力等多个客户处通过工艺验证，截至目前已获得国内多家晶圆厂商的重复订单（根据19年报）。

  风险提示：LED行业周期性不景气的风险；前道涂胶显影设备工艺验证及市场开拓没有到达预期的风险；政府补助政策的风险；新型冠状病毒肺炎疫情导致需求下滑或延缓的风险。

  证券之星估值分析提示蔚蓝锂芯盈利能力平平，未来营收成长性一般。综合基本面各维度看，股价偏高。更多

  证券之星估值分析提示北方华创盈利能力良好，未来营收成长性一般。综合基本面各维度看，股价偏高。更多

  证券之星估值分析提示乾照光电盈利能力比较差，未来营收成长性较差。综合基本面各维度看，股价偏高。更多

  证券之星估值分析提示华灿光电盈利能力比较差，未来营收成长性较差。综合基本面各维度看，股价偏高。更多

  证券之星估值分析提示至纯科技盈利能力平平，未来营收成长性较差。综合基本面各维度看，股价合理。更多

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