等离子去胶机的中心优势与多范畴使用解析

更新时间：2026-03-31 作者：米乐客户端

　　等离子去胶机是一种使用高能等离子体去除资料外表有机污染物和光刻胶的先进设备。晟鼎半导体作为国内的外表处理解决方案提供商，研制的等离子去胶机系列新产品凭仗其功能和安稳才能，已成为半导体、微电子和光电显现等职业的要害出产设备。

　　1.长途等离子：长途等离子体可以尽可能的避免在等离子体生成进程中损坏晶圆以及杰出的均匀性

　　4.Taiko晶圆解决方案：Taiko晶圆工艺的特别规划，以完成用户的需求；

　　5.特征软件：软件独立研制，具有直观的进程动画、丰厚的数据和记载、PM指导线. 多工艺适应性：:晟鼎设备支撑多种工艺气体组合（纯氧、氧+H2N2等）和功率调理，可针对不相同资料（Si、SiC、GaN、GaAs、蓝宝石、玻璃等）和胶层类型（光刻胶、PI、PBO、BCB等）来优化处理。

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