芯源微电子请求一种涂胶显影体系及晶圆加工办法专利可进步光刻机的全体寿数

更新时间：2025-01-26 作者：米乐客户端

  金融界2025年1月15日音讯，国家知识产权局信息数据显现，沈阳芯源微电子设备股份有限公司请求一项名为“一种涂胶显影体系及晶圆加工办法”的专利，公开号CN 119291999 A，请求日期为2024年12月。

  专利摘要显现，本发明供给了一种涂胶显影体系，包含整理洗刷设备和涂胶显影设备；整理洗刷设备用于对晶圆进行整理洗刷；涂胶显影设包含涂胶单元、覆膜单元、显影单元和去膜单元；涂胶单元用于对被整理洗刷设备清洗过的晶圆进行光刻胶涂布工艺处理；覆膜单元用于在晶圆反面涂覆润滑膜层，以添加晶圆反面的润滑度；显影单元用于对曝光后的晶圆进行显影工艺处理；去膜单元，用于去除晶圆反面的润滑膜层。经过设置整理洗刷设备，在晶圆进入涂胶显影设备之前对晶圆进行整理洗刷，可有用去除前序堆积、刻蚀留在晶圆反面的污染物颗粒。经过在涂胶显影体系中设置覆膜单元，能轻松实现在晶圆的反面涂覆润滑膜层。润滑膜层可大大下降光刻机承载台吸附晶圆时的摩擦力，从而进步光刻机的全体寿数。

  天眼查资料显现，沈阳芯源微电子设备股份有限公司，成立于2002年，坐落沈阳市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册本钱13782.7011万人民币，实缴本钱6300万人民币。经过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外出资了6家企业，参加招投标项目290次，知识产权方面有商标信息27条，专利信息570条，此外企业还具有行政许可56个。

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