浙江征求意见：晶圆制作范畴加速打破3-7nm制程 开展离子注入机、涂胶显影、先进制程光刻机、刻蚀机等

更新时间：2026-01-12 作者：米乐客户端

  规划（征求意见稿）》，现就文稿内容及公平竞争性向社会揭露征求意见。征求意见指出，芯片规划与制作范畴，打破低功耗芯片规划，开展高端通用芯片、专用芯片、智能芯片等，开发第五代精简指令集架构芯片。晶圆制作范畴，加速打破3-7nm制程。要害资料范畴，开展化合物资料、电子气体、高纯靶材、光刻胶等。要害设备范畴，开展离子注入机、涂胶显影、先进制程光刻机、刻蚀机等。封装测验范畴，加速打破芯粒封装、三维异构集成封装、异质封装、脉冲序列测验等技能。新一代